光刻胶
光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、溶剂和其他助剂。

产品概述

光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、溶剂和其他助剂。

产品特点

树脂是光刻胶的骨架,圣泉光刻胶以自产树脂为基体,具有以下优势:
  • 耐刻蚀性好:采用公司自产光刻胶用树脂,耐强酸刻蚀时间≥2400sec。

  • 性价比高:自产树脂,成本优势。

  • 工艺窗口宽:产品适应性强,工艺窗口宽。

  • 环保:使用酚醛树脂体系和水性显影液。

应用领域

目前主要应用于GPP(玻璃钝化保护层元器件)、LED芯片、显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工领域。
产品咨询
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